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          全面禁光刻機和先進(jìn)技術(shù)!美國聯(lián)手荷蘭擴大對華芯片出口限制

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          隨著(zhù)美國政府聯(lián)手其他國家收緊出口管制政策,中國企業(yè)進(jìn)口光刻機等半導體設備正面臨越來(lái)越大的困難。

          當地時(shí)間9月5日,美國商務(wù)部下屬的工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)布公告,出于“國家安全和外交政策”的考慮,更新量子計算、半導體制造和其他先進(jìn)技術(shù)的管制政策清單,共計133頁(yè),這進(jìn)一步加強了美國對華量子計算、半導體制造等科技出口限制,涉及量子計算機及其相關(guān)設備、先進(jìn)半導體設備必需的工具和設備、GAAFET(3nm及以?xún)刃酒圃旃に嚕┘夹g(shù)以及增材制造項目等。

          BIS表示,此份文件規則自2024年9月6日起生效。

          美國BIS副局長(cháng)艾倫·埃斯特維茲(Alan Estevez)表示,此次行動(dòng)確保美國出口管制與快速發(fā)展的技術(shù)保持同步,也確保了美國與國際伙伴合作時(shí),出口管制更加有效。

          隨后,荷蘭政府也“對齊”美國出口管制政策,實(shí)施所有的光刻機出口審批。9月6日,荷蘭光刻機龍頭ASML(阿斯麥)對鈦媒體App展示一份聲明中回應:

          “荷蘭政府于今日發(fā)布了有關(guān)浸潤式 DUV(深紫外)光刻設備出口的最新許可證要求。ASML認為,這項新要求將使出口許可證的發(fā)放方式更協(xié)調統一。根據更新后的許可證發(fā)放要求以及美國《出口管理條例》第734部分的第4.(a).(3)節的規定,ASML將需要向荷蘭政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型號浸潤式DUV光刻系統的出口許可證。之前,荷蘭政府已經(jīng)開(kāi)始對 TWINSCAN NXT:2000i 及后續推出的浸潤式光刻系統實(shí)施出口許可證要求。ASML EUV 光刻系統的銷(xiāo)售也受到出口許可證要求的限制。荷蘭政府公布的最新許可證要求將于 2024 年 9 月 7 日生效。由于這是一項流程性變更,ASML預計該公告不會(huì )對我們 2024 年的業(yè)績(jì)預期或 2022 年 11 月投資者日上公布的公司長(cháng)期前景產(chǎn)生重大影響?!?/span>

          換句話(huà)說(shuō),未來(lái),如果由美國政府和荷蘭政府共同審批的話(huà),ASML的先進(jìn)EUV(極紫外)、部分DUV光刻機設備都不太可能向中國銷(xiāo)售了。

          針對上述消息,中國外交部發(fā)言人毛寧9月6日表示,中方一貫反對美國將經(jīng)貿科技問(wèn)題政治化、武器化。我們認為,對正常的技術(shù)合作和經(jīng)貿往來(lái)人為地設置障礙,違反市場(chǎng)經(jīng)濟原則,擾亂全球產(chǎn)供鏈穩定,不符合任何一方的利益。

          圖片2 

          9月8日,中國商務(wù)部新聞發(fā)言人就此表示,中方注意到相關(guān)情況。近來(lái),中荷雙方就半導體出口管制問(wèn)題開(kāi)展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進(jìn)一步擴大對光刻機的管制范圍,中方對此表示不滿(mǎn)。近年來(lái),美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個(gè)別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關(guān)國家和企業(yè)正當權益,中方對此堅決反對。荷方應從維護國際經(jīng)貿規則及中荷經(jīng)貿合作大局出發(fā),尊重市場(chǎng)原則和契約精神,避免有關(guān)措施阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展,不濫用出口管制措施,切實(shí)維護中荷企業(yè)和雙方共同利益,維護全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩定。

          再加碼!美國政府不僅更新管制新規,還讓荷蘭“對齊”出口限制

          原本預期在10月美國B(niǎo)IS更新的 AI 半導體出口管制規定,突然提前一個(gè)多月快速落地實(shí)施。

          9月5日,美國商務(wù)部BIS更新出口管制規定,加緊對量子計算和半導體制造設備等關(guān)鍵技術(shù)的出口管制。美國商務(wù)部表示,該部正在全球范圍內對量子計算機和制造先進(jìn)半導體設備所需的機器等特定類(lèi)型的產(chǎn)品實(shí)施出口限制,但是對日本等采取類(lèi)似措施的國家例外。

          BIS在“商務(wù)管制清單”文件中增加和修訂了出口管制物項的分類(lèi)編號 (ECCNs),對半導體制造設備、量子計算機技術(shù)及其相關(guān)設備、增材制造設備、GAAFET技術(shù)、量子計算特定材料和電子組件、以及軟件和特定半導體制造與量子計算設備開(kāi)發(fā)的技術(shù),相關(guān)物項均進(jìn)行全球范圍內的出口管制。

          根據文件,涉及物項包括2B910(增材制造設備),2D910(增材制造設備的“軟件”),3A901(電子組件),3A904(低溫冷卻系統)、3B001(半導體制造設備),3B903(掃描電子顯微鏡),3B904(低溫晶圓探測設備),3C907、3C908、3C909(特定材料),3D901、3D907(量子計算相關(guān)的“軟件”),3E901、3E905(量子計算和GAAFET技術(shù)的“技術(shù)”),4A906(量子計算機及相關(guān)組件),4D906(量子計算機相關(guān)組件的“軟件”)。4E906(量子計算機相關(guān)組件的“技術(shù)”),這些都會(huì )納入新的BIS審批獲準當中。

          同時(shí),BIS 還新增了 “國家安全” 和 “地區穩定” 兩項全球許可證要求,從美國出口這些物項到全球所有國家都需要向美國申請許可。具體來(lái)說(shuō),對參加了瓦森納出口管制協(xié)定國家,原則上允許出口,而對美國指定的 “國家安全” 相關(guān)國家或 “武器禁運國家”,例如中國,則是假定拒絕出口,對于其他國家,則是一事一議的原則。

          進(jìn)一步,BIS 為 “志同道合” 的國家提供了豁免,即 “許可證豁免的出口管制”(IEC) 機制,各國如果實(shí)施和美國等效的出口管制,滿(mǎn)足了 IEC 的要求,那么美國將豁免對這些國家的出口許可要求。目前,意大利、英國、澳大利亞、加拿大、日本、西班牙、法國和德國等8個(gè)國家的20個(gè)物項將有特別的許可豁免權。

          值得注意的是BIS文件中提到關(guān)于GAAFET(全環(huán)柵晶體管)部分,這將影響國內 GPU/AI 芯片研發(fā)和量產(chǎn)。

          事實(shí)上,GAAFET是一種先進(jìn)半導體制造技術(shù),用于制造更小、更高效的晶體管,目前大體可以制造4nm、3nm、2nm以及1nm芯片產(chǎn)品。當前涉及此技術(shù)的上中游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括全球兩大晶圓代工龍頭(三星、臺積電),三大EDA龍頭(Synopsys新思科技、Cadence楷登科技、以及西門(mén)子EDA),這些公司均掌握此技術(shù),而蘋(píng)果、英偉達等企業(yè)都正在量產(chǎn)基于GAAFET的芯片。而文件中指出,BIS正在對涉及GAAFET技術(shù)的某些項目實(shí)施出口控制,以保護國家安全和外交政策利益。

          不僅更新了管制新規,同一時(shí)間,美國政府還讓荷蘭“對齊”出口限制。

          9月6日,荷蘭政府發(fā)布有關(guān)浸潤式 DUV光刻設備出口的最新許可證要求,主要涉及荷蘭光刻機龍頭ASML的產(chǎn)品,預計該限令將于9月7日生效。

          對此,荷蘭貿易部長(cháng)雷內特·克萊弗(Reinette Klever)表示:“這一決定是為了我們的安全。我們認為,由于技術(shù)的進(jìn)步,這些特定生產(chǎn)設備的出口存在更多的安全風(fēng)險,尤其是在當前地緣政治環(huán)境的背景之下?!?/span>

          此前,荷蘭首相肖夫(Dick Schoof)表示,荷蘭政府在決定進(jìn)一步收緊ASML設備對華出口規則時(shí),將考慮到該公司的經(jīng)濟利益。

          “我們正在進(jìn)行談判,良好的談判,我們也在特別關(guān)注ASML的經(jīng)濟利益,這些利益需要與其他風(fēng)險進(jìn)行權衡,而經(jīng)濟利益是極其重要的”。肖夫補充說(shuō),“對荷蘭來(lái)說(shuō),ASML是一個(gè)極其重要的創(chuàng )新企業(yè),在任何情況下都不應受到影響,因為這將損害ASML的全球地位”。

          知情人士稱(chēng),肖夫領(lǐng)導的荷蘭政府很可能不會(huì )在ASML某些在華維修和提供備件的許可證于2024年底到期后為其續期,預計將涉及ASML的頂級DUV(深紫外)光刻機。對此肖夫不予置評。

          實(shí)際上,在美國的壓力下,荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶(hù)出口其最先進(jìn)的EUV設備,并從2023年9月開(kāi)始要求NXT:2000系列及更好的DUV設備需要出口許可。2023年10月,美國單方面開(kāi)始限制ASML 1970i和1980i工具的出貨。

          ASML已警告中國客戶(hù),從2024年起不預期再交付這些設備。

          據財新,金杜律師事務(wù)所合規業(yè)務(wù)部貿易法合伙人戴夢(mèng)皓表示,美國新增的這批全球管制物項在之前幾輪對中國的管制中已經(jīng)基本覆蓋到了,因此本次美國的新政策對中國產(chǎn)業(yè)的新影響不大。但是,這樣的新規利于美國未來(lái)進(jìn)一步收緊出口管制,對日本和荷蘭等半導體材料和設備生產(chǎn)國施加更大壓力。

          總結看,此次BIS文件主要涉及量子計算的全產(chǎn)業(yè)鏈體系,也就是美國政府希望全面限制中國發(fā)展量子計算技術(shù),同時(shí),通過(guò)與荷蘭、日本“對齊”出口管制方式,美國芯片產(chǎn)業(yè)鏈全面斷絕中國獲取海外先進(jìn)制程芯片所需的設備、材料等。

          一位EDA行業(yè)人士向鈦媒體App透露,目前EDA三巨頭已經(jīng)限制國內設計企業(yè)的GAAFET IP和EDA軟件采購,因此,此輪管制對于國內EDA方面影響有限,但長(cháng)期來(lái)看,中國企業(yè)很難再擁有研發(fā)先進(jìn)制程芯片的EDA軟件。

          “我們本來(lái)就對放寬半導體出口沒(méi)什么期待了?!鄙鲜鋈耸糠Q(chēng)。

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